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近日,國際數(shù)據(jù)平臺Quartr發(fā)布“120+全球半導體行業(yè)核心企業(yè)榜單",英??祵嵙Φ前?,作為“半導體制造設備和服務企業(yè)"的一員,與NVIDIA英偉達、Qualcomm高通等全球企業(yè)們共享這份榮耀!
能夠躋身這一象征著行業(yè)風向標的榜單,不僅再度證明了英??翟诎雽w領域的技術實力和品牌影響力,也為我們日后在行業(yè)內與用戶更深度、更廣泛的合作和新的業(yè)務增長創(chuàng)造了機遇。
半導體行業(yè)精確的真空控制方案:在半導體制造中,英福康的真空控制產品可應用于各種工藝步驟,確保精準控制零件及設備生產所必需的真空條件。
并且,我們的產品技術在全球范圍的眾多客戶處都得到應用與印證,是能夠幫助企業(yè)提高生產力、效率、正常運行時間和產量的優(yōu)質方案。
晶體拉制:在晶體拉制過程中,英福康的電容真空計系列可以控制拉制腔內的工藝壓力,從而生長出wanmei無瑕的硅晶體。這種精確的壓力控制對于實現(xiàn)最佳晶體生長至關重要,并有助于提高半導體材料的質量和純度。
氧化/柵極電介質和離子注入:在氧化/柵極電介質和離子注入等工藝中,英福康的真空控制產品可確保穩(wěn)定的真空環(huán)境。電容真空計系列可監(jiān)控工藝壓力,而皮拉尼真空計和冷陰極真空計則可提供全系統(tǒng)壓力控制。這種細致的調節(jié)對于獲得理想的材料特性和摻雜精度至關重要,從而直接影響到半導體器件的性能。
光刻技術:在光刻工藝中,英??嫡婵湛刂平鉀Q方案(包括電容真空計和皮拉尼真空計)以及熱離子真空計和冷陰極真空計可實現(xiàn)工藝系統(tǒng)內精確的壓力控制。真空元件可確保無泄漏連接,有助于提高光刻工藝的穩(wěn)定性和準確性。
蝕刻:在蝕刻工藝中,英??档恼婵湛刂飘a品,特別是電容式真空計,可調節(jié)工藝壓力,實現(xiàn)精確的材料去除。電容計、皮拉尼計、熱離子計和冷陰極的組合則可實現(xiàn)全系統(tǒng)的壓力控制,以確保蝕刻的一致性和高工藝可重復性。此外,采用了光學氣體分析裝置的 Augent® OPG550 能夠監(jiān)測蝕刻過程中使用的氣體成分,進一步確保工藝穩(wěn)定性和精確的材料去除。
CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP:在 CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP 等工藝中,英??档恼婵湛刂飘a品在調節(jié)工藝壓力、確保材料精確沉積和開發(fā)方面發(fā)揮著重要作用。電容真空計系列可監(jiān)控過程壓力,而熱離子計、冷陰極和真空配件則有助于進行穩(wěn)定的系統(tǒng)壓力控制,提高過程均勻性和設備性能。我們的光學氣體分析儀 Augent® OPG550 能夠監(jiān)控材料沉積過程中的氣體成分,確保最佳條件。