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等離子(PLASMA)清洗常用的氣體
等離子清洗機中常用的工藝氣體包括氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、氫氣、四氟化碳等。它利用氣體電離產(chǎn)生的等離子體對工件表面進行處理。不同的工藝氣體會被用來達到的處理效果,那么等離子清洗機中常用的工藝氣體如何選擇呢?
氧氣
氧氣是等離子清洗常用的活性氣體,屬于物理+化學處理方式。電離后產(chǎn)生的離子可以物理轟擊表面,形成粗糙的表面。同時,高活性氧離子可以與斷裂的分子鏈發(fā)生化學反應,形成活性基團的親水表面,從而達到表面活化的目的。
有機污染物的元素在斷鍵后會與高活性氧離子發(fā)生化學反應,形成一氧化碳、二氧化碳、H2O等分子結(jié)構。從表面分離,從而達到表面清潔的目的。
氧氣主要用于高分子材料的表面活化和有機污染物的去除,但不適合易氧化的金屬表面。真空等離子體中的氧等離子體為淺藍色,在局部放電條件下類似白色。放電環(huán)境光線明亮,肉眼觀察真空室可能沒有放電。
氬氣
氬氣是一種惰性氣體。電離后產(chǎn)生的離子不會與基底發(fā)生化學反應。主要用于等離子清洗中的物理清洗和基片表面粗糙化。最大的特點是在表面清洗時不會造成精密電子器件表面氧化。為此,氬等離子清洗機廣泛應用于半導體、微電子、晶圓制造等行業(yè)。
真空等離子清洗機中氬氣電離產(chǎn)生的等離子體為暗紅色。在相同的放電環(huán)境下,氫氣和氮氣產(chǎn)生的等離子體顏色為紅色,但氬氣等離子體的亮度會低于氮氣,高于氫氣,易于區(qū)分。
等離子清洗設備的真空系統(tǒng)部分,真空計一般推薦使用 Inficon 的 PSG500 系列,真空閥門推薦使用中國臺灣日揚的 KF16、KF25 和 KF40 的氣動角閥。
本公司專業(yè)服務和代理:
1、英福康(Inficon)真空計、檢漏儀、殘余氣體分析儀(RGA)、晶振片;
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