技術文章
INFICON電容薄膜規(guī)的特點概要
一、 電容薄膜規(guī)的常用型號
1、 CDG025D、CDG045/100/160/200
二、 電容薄膜規(guī)的特點
· 以可靠的超純陶瓷傳感器室為基礎構成
· 在嚴酷和腐蝕性環(huán)境中,穩(wěn)定與可靠的高精度壓強測量
· 快速的預熱和恢復時間,提高生產率
· 良好的長期穩(wěn)定性,再現(xiàn)性和重復性
· 由于電子學直接安裝在傳感器上,改進了溫度補償和EMC兼容性
· 對環(huán)境條件變化的敏感度的降低使得測量更穩(wěn)定
· 快速預熱,在開機的一分鐘內達到快速穩(wěn)定和進入準備使用狀態(tài)
· 一鍵按鈕: 調零功能和設置點調整
· 抗腐蝕超純陶瓷傳感器
· 能經受數百萬次壓強循環(huán)周期,包括大氣壓沖擊,無任何降低性能的跡象
· 暴露大氣壓后快速恢復,無需隔離閥
· 對蒸氣介質不敏感
· 傳感器屏蔽 延長真空計在污染的工藝過程中的使用壽命
三、 加熱型薄膜規(guī)的常用型號和優(yōu)點
CDG045、CDG100、CDG160、CDG200
· 零飄極小0.1%FS/年(干凈真空環(huán)境)
· 更高的精度
· 環(huán)境溫度變換/環(huán)境壓力變化/環(huán)境氣流變化對精度無影響
· 比工藝更快的預熱啟動時間’
· 快速恢復時間 大氣壓 < 1 min within 5mV
· 任意安裝角度
· 抗污染,可有效抵抗工藝氣體或工藝產生氣體的腐蝕影響
四、 電容薄膜規(guī)的應用行業(yè)
在要求比較高的應用條件下,精確而快速的壓強測量
· 用于刻蝕,CVD、PVD、ALD半導體設備制造,如太陽能光伏行業(yè)的PECVD用的很多
· 刻蝕上一般用陶瓷型的CDG025D-X3比較多,抗污染性能比較好。
· 一般國內用的PECVD還有多晶爐上用的MKS的電容薄膜規(guī)622A/626A/627D和INFICON的CDG025D比較多,如德國Ruth&Rau公司的PECVD設備標配產品為MKS的626B13TDE和627D01TDC1B,質量流量計用的是1179BX23CR14VSPC1 800sccm/SiH4和1179BX5CR14NSPC1 2000sccm/NH3
· 國內大部分PECVD設備上用的都是INFICON的CDG025D
· 資料貯存和顯示器制造設備
· 工業(yè)真空設備
· 常用高精度真空測量
(版權聲明:文章部分內容摘錄自友商網絡文章《真空計種類這么多,如何選擇才最好?》,在此致謝,如有不當請聯(lián)系刪除。)